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CVD管式爐設備由沉積溫度控件、沉積反應室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據(jù)用戶需要設計生產，CVD系統(tǒng)除了主要應用在碳納米材料制備行業(yè)外，現(xiàn)在正在使用在許多行業(yè)，包括納米電子學、半導體、光電工程的研發(fā)、涂料等領域。

CVD管式爐設備由沉積溫度控件、沉積反應室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據(jù)用戶需要設計生產，CVD系統(tǒng)除了主要應用在碳納米材料制備行業(yè)外，現(xiàn)在正在使用在許多行業(yè)，包括納米電子學、半導體、光電工程的研發(fā)、涂料等領域。

產品用途：此款CVD系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結真空淬火退火，快速降溫等工藝實驗。

產品用途：此款CVD系統(tǒng)是專門為在金屬箔上生長薄膜而設計，特別是應用在新一代能源關于柔性金屬箔電極方面的研究，通過滑動爐實現(xiàn)快速加熱和冷卻。

公司主營快速退火爐 馬佛爐管式電阻爐/熱處理電阻爐/高溫箱式電阻爐中環(huán)電阻爐/干燥箱/恒溫干燥箱/鼓風干燥箱/電熱鼓風干燥箱/真空干燥箱/遠紅外干燥箱/濕熱實驗箱/高溫電熱鼓風干燥箱/大型電熱鼓風干燥箱/水箱/電熱水箱/恒溫水箱/電熱恒溫水箱/萬用電爐/封閉萬用電爐/封閉電爐/CVD爐/cvd電爐/rtp爐/快速退火爐/立式電爐/管爐/石磨希電爐/RTP/快速激活爐/粉體電爐/快速熱氧化爐